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8吋厂扩产买不到设备？国产半导体设备厂商迎来(2)
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摘要：目前华北华创的PVD、热处理设备、ICP蚀刻设备；纯净美观的清洁设备；华海Zero2IPO CMP设备； CITIC、CST的离子注入设备；涂胶及显影设备；拓晶的CVD/ALD/PEC
目前华北华创的PVD、热处理设备、ICP蚀刻设备；纯净美观的清洁设备；华海Zero2IPO CMP设备； CITIC、CST的离子注入设备；涂胶及显影设备；拓晶的CVD/ALD/PECVD设备、中微的CCP刻蚀设备等多款8英寸设备基本可以满足8英寸产线扩产需求，成为国内8英寸扩产首选。 .
国内半导体设备制造商北华创2018年推出的NMC508M金属蚀刻型设备在8英寸金属蚀刻工艺中得到很好的应用，其性能指标甚至超过了应用材料公司的老款DPS Metal机型(AMAT)。
近日，中微半导体还推出了8英寸CCP蚀刻机型——Primo AD-RIE 200，并成功交付给客户。
CCP蚀刻是8英寸工艺的关键设备。 Lam Research 的 TCP 9400、AMAT 的 eMAX/DPS Poly 和 TEL 的 SCCM unity 等模型的生产早已停产。市场“一机难求”，因此中微半导体的这款器件也有望成为爆款，畅销国内外。
此外，国内拓晶科技的8英寸CVD设备SA-200T系列设备，可满足客户高质量的TEOS SiO2（正硅酸乙酯沉积二氧化硅）工艺和BPSG工艺（硼酸硅玻璃电介质沉积），未来将极大地替代AMAT PRODUCER HARP系列CVD机型进行深槽回填工艺，拓晶科技的PECVD和ALD设备将成为国内存储厂商扩张的核心薄膜沉积设备。未来。
由于8英寸工艺的CD特征尺寸较大，对工艺精度的要求不如12英寸高端工艺。因此，国产新设备完全有能力替代美国应用材料、美国泛林半导体、日本东京电子。十多年前的8寸设备老机型，国产新设备操作界面更先进，对工程师更友好。很多老设备使用老旧的操作控制系统，需要反复插盘进行参数调整。这种操作让工程师感觉很烦。
虽然8英寸工艺已经发展了30年，但实际上每年都还在研发特殊工艺，工艺还在不断升级。这对设备提出了新的要求，显然老机型难以满足新工艺的要求，这给国产设备带来了巨大机遇。
因此，在强劲的市场需求和定制化工艺两大客户需求下，国产设备迎来了巨大的发展机遇。以8英寸为基础，聚焦12英寸高端，为客户定制设备是国产半导体设备的未来发展方向。
编辑：心知勋-柔柔剑
文章来源：《设备监理》 网址: http://www.sbjlzz.cn/zonghexinwen/2021/0718/1445.html